EVG und NTT-AT entwickeln Harze für AR-Brillen

Das österreichische Unternehmen EV Group und der japanische Technologiekonzern NTT-AT haben gemeinsam die Eignung spezieller Harze für die Produktion von AR-Optikgeräten nachgewiesen. Die Ergebnisse werden auf einer Messe in China präsentiert.
Die EV Group (EVG) aus Österreich und die japanische NTT Advanced Technology Corporation (NTT-AT) haben in einer gemeinsamen Bewertung bestätigt, dass UV-härtende Hochbrechungsindex-Harze mit der SmartNIL®-Prozesstechnologie von EVG kompatibel sind. Dabei wurde die Machbarkeit untersucht, Wellenleiter für AR-Optikgeräte herzustellen.
Die Bewertung ergab eine hohe Muster-Treue, wiederholbare Prägeleistung sowie Umweltbeständigkeit, die für den Einsatz in der Produktion notwendig sind. Die Kombination aus der NH700-Serie von NTT-AT und der SmartNIL®-Technologie von EVG zeigt sich als wirksam für die Fertigung von AR-Optikgeräten.
Präsentation auf Fachmesse in Shenzhen
Die Ergebnisse werden auf der 27. China International Optoelectronic Exposition (CIOE 2026) vom 9. bis 11. September im Shenzhen World Exhibition & Convention Center vorgestellt. Zusätzlich veröffentlichen die beiden Unternehmen ein Whitepaper mit einer Zusammenfassung der Bewertung.
Hintergrund der Entwicklung
Mit steigender Nachfrage nach tragbaren Displays wie AR-Brillen konzentriert sich die Industrie verstärkt auf leichte Bauweisen und hochwertige Bildqualität. AR-Wellenleiter basieren auf mikrooptischen Strukturen wie Beugungsgittern und Meta-Optikelementen, weshalb skalierbare Fertigungstechnologien erforderlich sind.
Die Nanoimprint-Lithographie (NIL) gilt als vielversprechender Ansatz, um diese Strukturen mit hoher Präzision und Kosteneffizienz zu produzieren. Für den kommerziellen Einsatz müssen jedoch hochpräzise Nanoimprint-Systeme mit passenden Hochbrechungsindex-Materialien kombiniert werden.
Technische Details der Bewertung
In der gemeinsamen Bewertung verwendete NTT-AT das Material NH762 aus der NH700-Serie, um die Kompatibilität mit der SmartNIL®-Technologie und dem EVG® NIL UV/AS5 Arbeitsstempelmaterial zu testen. Die Ergebnisse bestätigten eine hohe Muster-Treue und die Eignung für die Herstellung von AR-Wellenleitern.
Die Bewertung zeigte die hochpräzise Replikation von 350 Nanometer Linien- und Raumstrukturen sowie die erfolgreiche Replikation von 45 Grad geneigten Gittern und Meta-Optikelementen mit Mindestmerkmalgrößen von 65 Nanometer ohne Defekte oder Verformungen.
Ein 25-facher Prägetest mit EVG® NIL UV/AS5 begrenzte die Änderung der Musterhöhe auf rund 2,2 Prozent, was die dimensionsstabile und reproduzierbare Freigabeleistung für die Produktion bestätigt. Nach Feuchtigkeits- und Lichtexpositionstests blieben die Musterstrukturen nahezu unverändert, was die hohe Umweltbeständigkeit für AR-Optikgeräte belegt.
Vorteile für Kunden
Die Entwicklung von AR-Optikgeräten verlangt oft erheblichen Aufwand bei Materialbewertung, Zuverlässigkeitstests und Fertigungskompatibilität. Die vorab geprüfte Nanoimprint-Material- und Prozesslösung beschleunigt für Kunden deutlich die Materialauswahl und frühe Prozessentwicklung und erleichtert den Übergang zur Produktionsfertigung.
Weitere Entwicklungen geplant
Neben NH762 wollen NTT-AT und EVG mit derselben Nanoimprint-Ausrüstung auch weitere Materialien der NH700-Serie testen. Die Entwicklung soll künftig auch für Anwendungen in AR-Optikgeräten, Meta-Optikelementen der nächsten Generation, LiDAR und Sensorik genutzt werden.
Ein Whitepaper mit den Ergebnissen der Bewertung findet sich auf der Website von NTT-AT. Die NH700-Serie umfasst Harze mit hohem Brechungsindex: Der gehärtete Film hat einen Brechungsindex von 1,8 bis 1,9 und ist zwischen 200 Nanometer und 1 Mikrometer dick.
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